一、设备简介

1.设备名称：等离子体增强化学气相沉积复合磁控溅射实验系统

2.生产商：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

3.型号：自主设计

4.购买日期：2017年10月

二、功能

1.用途

设备具有两部功能组成：类金刚石（DLC）镀膜部分和掺杂镀膜部分，两部分可同时工作，也可单独工作，用于开发单层、多层、掺杂类金刚石膜等膜，掺杂部分也可制备半导体薄膜、介质薄膜等多种纳米膜，可以制备金属陶瓷薄膜、氧化物和氮化物复合涂层等。

2.设备参数

（1）极限真空度：≤6.67×10^-5Pa (经烘烤除气后)

（2）系统真空检漏漏率：≤5.0×10^-7 +Pa.l/S

（3）系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达到6.67×10^-4Pa

（4）系统主要由真空室、射频电极、磁控靶、电源、样品台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成

（5）真空室为箱体活开门结构，尺寸约为500mm×500mm×400mm，壁挂防污板

（6）系统采用PLC+触摸屏控制方式（保证设备操作方便、灵敏、人性化，自动化程度高）